2 RF/DC Plasma Sputtering Verniciatura per Polveri con 1 PPM Gas Sistema di Purificazione-VTC-2RF-VP
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Henan Chengyi Laboratory Equipment Co., Ltd.
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Attributi
ChinaLuogo di origine
2000 WPotenza di ingresso
5 - 20 mlQuantità di polvere suggerita
Impianti di riscaldamento da laboratorioClassificazione
Caratteristiche principali
Luogo di origine
China
Potenza di ingresso
2000 W
Quantità di polvere suggerita
5 - 20 ml
Classificazione
Impianti di riscaldamento da laboratorio
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