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Forno di Sinterizzazione Industriale per Trattamento Termico di Componenti Ceramici SiC e TiC per Semiconduttori ad Alta Temperatura 2200°C

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90.092 €
1-3 insiemi
72.073,60 €
≥4 insiemi
Codice modello
Potenza (kW)

Caratteristiche principali

Tipo

Resistenza Forno

Tensione

380V

Utilizzo

carbon materials carbonization, graphite carbonization, PI film carbonization, heat treatment processing, carbon materials debinding

Punti di forza

Controllo accurato della temperatura

Garanzia

1 ANNO

Componenti principali

PLC

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Caratteristiche principali

Tipo
Resistenza Forno
Tensione
380V
Utilizzo
carbon materials carbonization, graphite carbonization, PI film carbonization, heat treatment processing, carbon materials debinding
Punti di forza
Controllo accurato della temperatura
Garanzia
1 ANNO
Componenti principali
PLC
Rapporto di collaudo macchinari
Non disponibile
Ispezione video in uscita
Fornito
Luogo di origine
Hunan, China
Peso (t)
2
Nome del brand
Nuotian
Temperatura di funzionamento (℃)
2200 °C
Materiale
Grafite, PI film, Carbon material
Structure
Horizontal type
Working size
500x500x1200 mm
Heating type
Resistance heating
HT zone capacity without the tray
300L
Ultimate vacuum
20Pa
Power
330Kw
Heating Zone
1
Max. working temperature (℃)
2300
Usual working temperature (℃)
2200
Temperature uniformity((℃)
± 5

Imballaggio e consegna

Unità vendute
Singolo articolo
Dimensione confezione singola
3200X2050X2450 cm
Peso lordo unitario
3000.0 kg

Tempo di lavorazione