Macchina per rivestimento a sputtering al plasma in polvere da laboratorio con tripla testa RF DC e sistema di purificazione gas 1PPM VTC-3HD-VP
Valutazione negozio:4.9
(34 recensioni)
Attributi
un annoGaranzia
OEMSupporto personalizzato
Henan, ChinaLuogo di origine
MTINome del brand
Sputter Rotativo al PlasmaMateriale
2000 W (inclusi una pompa per vuoto e un refrigeratore d'acqua)Potenza in ingresso
Requisito di dimensione target:Diametro 1" * spessore massimo 1/8"
Gamma di distanza di sputtering:50 - 80 mm regolabile
Intervallo dell'angolo di sputtering:0 - 25° regolabile
Caratteristiche principali
Garanzia
un anno
Supporto personalizzato
OEM
Luogo di origine
Henan, China
Nome del brand
MTI
Materiale
Sputter Rotativo al Plasma
Potenza in ingresso
2000 W (inclusi una pompa per vuoto e un refrigeratore d'acqua)
Requisito di dimensione target
Diametro 1" * spessore massimo 1/8"
Gamma di distanza di sputtering
50 - 80 mm regolabile
Intervallo dell'angolo di sputtering
0 - 25° regolabile
Imballaggio e consegna
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VTC-3HD-VP
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