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Macchina per rivestimento a sputtering al plasma in polvere da laboratorio con tripla testa RF DC e sistema di purificazione gas 1PPM VTC-3HD-VP

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22.144,25-26.573,10 €
Quantità minima d'ordine: 1 insieme

Codice modello

VTC-3HD-VP
Opzioni di personalizzazione
Imballaggio personalizzato (Ordine minimo: 5 insiemi)

Caratteristiche principali

Luogo di origine

Henan, China

Materiale

Sputter Rotativo al Plasma

Nome del brand

MTI

Supporto personalizzato

OEM

Garanzia

un anno

Potenza in ingresso

2000 W (inclusi una pompa per vuoto e un refrigeratore d'acqua)

Spedizione

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Caratteristiche principali

Luogo di origine
Henan, China
Materiale
Sputter Rotativo al Plasma
Nome del brand
MTI
Supporto personalizzato
OEM
Garanzia
un anno
Potenza in ingresso
2000 W (inclusi una pompa per vuoto e un refrigeratore d'acqua)
Requisito di dimensione target
Diametro 1" * spessore massimo 1/8"
Gamma di distanza di sputtering
50 - 80 mm regolabile
Intervallo dell'angolo di sputtering
0 - 25° regolabile

Imballaggio e consegna

Unità vendute
Singolo articolo
Volume singolo
0 cm³
Peso lordo unitario
0.0 kg

Tempo di lavorazione

Opzioni di personalizzazione

Imballaggio personalizzato(A partire da /Ordine min.: 5 insiemi)
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